斯波克这才抬头：“boss，找我有事情，还是说能给我新的灵感？”

研究所里的港岛员工看到他过来，自然也是过来做翻译。

王青松闻言笑了笑：“我可没有！样机试验怎么样了？”

距离他给的资料已经过去一年时间。

设备已经制造出来了。

或者说，半年前就已经制作出来一套光刻机设备。

但是这台光刻机有着这个时代光刻的通病。

那就是成品率。

主要原因自然是因为光掩膜的使用寿命。

现在是半导体的远古时代。

很多后世的软硬件这个时代都没有。

和后世的用计算机和eda软件设计不同的是，这个时代的光掩模真的是靠人工手搓的。

初代工程师先在方格纸上用彩色铅笔绘制好集成电路版图。

再用精细的刀片在光掩模母版上，徒手把晶体管和电路连接一点一点刻出来。

最后用母版图形，用相机缩小50到100倍。

才能用一张用来做光刻的光掩模。

和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。

这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。

掩模涂层与光刻机涂层直接接触，再打光照射，完成曝光。

但是这种光照方式的失败率和成本都很高。

因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒，不仅影响效果，还会对光掩模造成损伤。

10张晶片才能用有一张能用，还会加速光掩模的使用寿命。

成本是相当的高。

后来按照他给的资料，又在接触式光刻机的基础上，加了一个水平和垂直方向上可移动的平台。

以及一个测量光掩模和晶片之间的显微镜。

让两者在刻录的时候，靠近又不接近，解决了之前的问题。

也就是接近式的光刻机。

但是这种光刻机解决了之前的问题，但是精度下降。

所以这两款产品出来以后，他直接就放弃了。

直接用上了1974年才出来的投影技术。

这玩意成本还挺高的，需要不少的光学器件，都需要从日本进口。

当然了，这个成本高也是相对的。

此时王青松在那里琢磨着，如果能把电脑和eda软件拿出来。

那光刻成本就会下降非常的多。

要知道，一个工程师刻一张光掩模出来，哪怕是一张简单的，也需要大量的时间。

随后在那里琢磨了一下，还是摇摇头。

反正这种个光刻机是卖给国外的，让他们自己手刻去吧。

而且他也暂时不会把投影式光刻机卖给国外。

这玩意现在民用用不上，最大的用处就是军用，因为开发导弹系统需要大量的芯片。

这种投影式光刻机第一次面世是1974年，也是未来光刻机的主体，各种进阶版都是在这种光刻机的基础上升级过来的。

导弹系统？

王青松想到这里，在那里琢磨着一个事情。

不知道这玩意内地需不需要啊！

思绪间，就听到斯波克兴奋的说道：“好了！设备还在实验中，但是根据目前测试出来的结果，成品合格率能提高4倍！将成本降低3.5倍。这或许是个划时代意义的产品。”

王青松闻言笑了笑。

这款产品，在光刻机市场上来说的话，确实是属于里程碑意义的产品。

“行，不过接近式光刻机还是需要完善一下，到时候组建公司生产出来的产品卖给别的半导体公司。”

接近式虽然有缺陷，因为分辨率问题导致仅支持3μ以上制程。

但是在这时代已经足够了。

成本也比接触式要低许多。

用在军方上可能有些不足，但是用在普通企业上还是没问题的。

哪怕是接近式光刻机以及配套的掩模对准技术，现在国际上也还没研究出来。

斯波克闻言一脸的不理解：“既然我们有更先进的技术，为什么现在不推出？而是用这种旧的技术？”

王青松笑道：“我们是公司，需要盈利，现在接近式光刻机还没有人生产，这种程度的光刻机现在已经足够市场使用了，等时间差不多的时候我们再推出新的设备！不是更好吗？

更换设备，又能大赚一笔！”

他总不能说，自己不想西方的光刻技术发展的太快了。

而且哪怕以后真的卖投影式光刻机，他也不会把电脑弄过去。

让他们继续用手搓。

自己也要开一个芯片设计和生产的公司。

例如英特尔这样的。

到时候自己的公司用电脑，别的公司用手搓，这中间的成本又能多不少。

卡一下他们的脖子。